Doprava zadarmo s Packetou nad 59.99 €
Pošta 4.49 €
SPS 4.99 €
Kuriér GLS 3.99 €
Zberné miesto GLS 2.99 €
Packeta kurýr 4.99 €
Packeta 2.99 €
SPS Parcel Shop 2.99 €
Ako nakupovať
Pomoc
Doručenie
Pošta 4.49 €
SPS 4.99 €
Kuriér GLS 3.99 €
Zberné miesto GLS 2.99 €
Packeta kurýr 4.99 €
Packeta 2.99 €
SPS Parcel Shop 2.99 €
Doprava zadarmo s Packetou nad 59.99 €
Nákupný poradca
Sme tu pre Vás!
02/210 210 99
Môj účet
Staňte sa súčasťou komunity milovníkov kníh z celého sveta a získajte hromadu výhod.
Založiť účet zdarma
▸
Prázdny :-(
0
Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization: Volume 991
Jazyk
Angličtina
Angličtina
Kniha
Pevná
Chemical mechanical planarization (CMP) has been a leading-edge technology in semiconductor processi...
Libristo kód: 02060445
?
81 b
PRIPRAVUJEME
81 b
PRIPRAVUJEME
32.24
€
Čaká sa dotlač
Termín neznámy
Termín neznámy
30 dní na vrátenie tovaru
Mohlo by vás tiež zaujímať
Chemical mechanical planarization (CMP) has been a leading-edge technology in semiconductor processing for the past 15
Informácie o knihe
Celý názov
Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization: Volume 991
Jazyk
Angličtina
Angličtina
Väzba
Kniha - Pevná
Dátum vydania
2007
Počet strán
371
EAN
9781558999510
ISBN
1558999515
Libristo kód
02060445
Nakladateľstvo
Materials Research Society
Váha
641
Rozmery
157 x 234 x 25
